イオン注入装置
All-in-one型イオン注入装置
Saion
高電流装置と中電流装置を統合する広範なイオン注入を可能にした、これまでにない新しいコンセプトで開発された最先端モデル。
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特長
- 300ミリだけでなく200ミリのウェハにも対応し、450mmにも展開可能
- HC装置とMC装置を一体化したフレームワーク
- エネルギー範囲 最小：0.2keV / 最大：630keV
- 高い電流値と広いエネルギーレンジによる、高い装置本体性能
- 生産の機種間フレキシビリティや装置有効利用率の向上、習熟工数の削減など、機種間互換性によりもたらされる新たな価値
- 新搬送システムの採用による生産性向上、およびパーティクル低減
- 新角度計測システムの採用による、ビーム角度測定の速度および品質の向上
- ウェハと同一平面上のビーム角度を計測可能
- RFシャワーシステム標準化
- メタルコンタミネーションの極小化
- シンメトリックスキャンによる良好な均一性
- 静電機器主体の省電力性能
- MINDシステム搭載
製品ラインアップ
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